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次日任正非火速拜访中科院,仍然指向了光刻机制造技术了

  • 日期:2020-09-21 18:27:20
  • 来源:互联网
  • 编辑:小优
  • 阅读人数:901

次日任正非火速拜访中科院,仍然指向了光刻机制造技术了(图1)

2020年9月14日,是美国对华为制裁的第三轮最后期限,9月15日,确定美方没有出现任何“回旋余地”华为面临前所未有的压力。

9月16日,中国科学院院长白春礼表示:把美国卡脖子清单变成科研任务清单。被卡住脖子的滋味不好受,外国能搞的,难道中国人不能搞?咬紧牙关,拿出当年搞“两弹一星”的精神,终能打翻身仗!

时间非常紧凑哈,根据媒体9月20日从方面获得的,9月17日下午,华为技术有限公司CEO任正非一行拜访了,就基础研究及关键技术发展进行了探讨交流。

也就是说,美方对华为的打压,可以说是心系举国上下,“拍着胸脯表态”次日任正非火速拜访,相关事件时间点前后衔接紧密。

事关祖国核心技术在受到限制以后,能否继续在世界一流水平中持续保持领先的问题,不得不令人重视。

倘若在关键时刻,不能奋起直追,恐怕会再次落后世界,仍然只是世界的“代工厂”这是我们所不愿意看到的情况,当然也是美国愿意看到的情景。

次日任正非火速拜访中科院,仍然指向了光刻机制造技术了(图2)

从这个方面上来讲,大家都能体会,啥叫“以国内经济循环为主体,国际国内双循环”了吧!当前首要问题,就是中国“芯片”不能自给自足的问题,而制造芯片最重要的是“光刻机”光刻机国内技术不能突破,谈不上“打通国内经济循环”的。

目前来看,循环已经受到了严重阻碍,很显然,这已经上升到国家战略层次。

在光刻机上的实力怎么样?

对于光刻机的研究,公开资料不多,所以也不知道目前处于什么水平。但有一个公开是年初见诸于报端的,那就是“攻克了2nm芯片技术,全球第一”

也就是说在芯片设计领域,可以说是领跑全世界。

但现在来看,即便是拥有了这项技术,显得“英雄无用武之地”制造芯片的核心技术,仍然掌握在别人手中,并且现在的情况是,人家想卖给你就卖给你,不想卖给你,咱们只能干瞪眼!

归根结底,所有的症结,仍然指向了光刻机制造技术了。

而国内能生产光刻机的企业,莫过于上海微电子了。

根据各方面来看,公司已经具备了28nm光刻机制造技术,并且已经实现了交付,并且预计12月可生产11纳米光刻机,该光刻机有生产7纳米制程的潜力。

这可以说是我们最能拿出手的技术了,但与全球巨头ASML的实力仍然相去甚远,因为台积电使用ASML光刻机已经实现了5nm芯片的量产,并且2021年3nm工艺芯片投入试生产。

很多朋友可能认为,能实现7nm工艺,已经相当不错了,至少可以在很多设备上应用了。

此言差矣,因为技术没有绝对的领先,只有相对的领先;倘若在10年前,这个水平的确非常牛了,而时至今日,就是落后世界。而待上海微电子的光刻机能支持5nm工艺的时候,这些技术同样落后世界,这永远有一个时间差。

这不像核技术,拥有和没有拥有是两个层次,现在的问题是能否领先世界!

公开资料显现,上海微电子大股东为上海电气集团,实际控制人为上海,合计持股超过50%,也就说说,国资背景,这基本上奠定可以和各方合作的基础。

次日任正非火速拜访中科院,仍然指向了光刻机制造技术了(图3)

有一个事件,值得大家重新思考,那就是7月份发生的一个离职事件报道。

两个角度可以供大家去思考:

其一、该研究所,为旗下,而这一次,院长提出的将光刻机作为任务清单,有没有内在的必然联系呢?

其二、咱们看院长的“措辞”拿出当年搞“两弹一星”的精神!而恰恰,这个90名科研人员“辞职”的合肥研究所,是“核能研究所”天底下,有这么巧合的事情吗?

该研究所的灵魂人物吴宜灿,6月、7月内密集注册成立的一系列“安徽中科凤麟系”公司,这都令人产生无限遐想。

“凤麟”是啥意思?

凤毛麟角?

或许有这个意思,但很容易让闲闲财经联想到华为的“麒麟芯片”

另一个让人玩味的事情是,8月27日,中国科学院院士吴宜灿在全国反应堆物理大会上发表学术演讲时提出了第五代核能简称为核5G的主要特征,认为其将成为未来核能的主要发展方向。

核5G的说法,很新鲜,并且被业内人士批评,有蹭热度之嫌!

但闲闲财经认为,或许是吴宜灿院士,思考5G问题太多了,忍不住就把这两个问题扯到一起了!

当面临美国的高压之下,中国核心技术需要突破,而当前形势来说,如果没有一个权威的部门牵头来搞,我们的芯片技术仍将长期落后世界,仍将长期受制于人,5G技术领先世界的契机再次成为泡影。

如此大好的局面,不能因为特朗普的制裁而断送,领导层,当然比我们看得更清楚,打通经济内循环,国产替代高潮正在逼近,也就是说在未来几年里,相关个股标的仍将是重要风口。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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