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第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号

  • 日期:2020-09-21 18:30:45
  • 来源:互联网
  • 编辑:小优
  • 阅读人数:9

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图1)

情况越发复杂了!在美国对华为终极禁令生效后,各方反应截然不同,让情况变得越来越复杂了。

中国方面,在美国最终禁令生效后的第二天,院长白春礼宣布重要决定,表示将集全院之力攻克光刻机等关键技术,帮助中国企业摆脱被西方国家卡脖子的困境。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图2)

而在中国宣布将举国之力研发光刻机后,微软创始人比尔·盖茨站出来质疑美国政府,认为对华芯片出口限制令对美国的发展没有丝毫好处,这将让美国失去高薪岗位及全球最大的芯片消费市场。

欧洲方面,以德国英飞凌公司及达索为例,在美国终极禁令生效后,它们相继做出表态,一方宣布自身不受美国禁令限制,另一方则表示会加快技术去美化,都相继传达出要扩大在中国发展规模的信号。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图3)

美国方面,AMD公司副在近期宣布该司已经获得许可证,可以向某些被限制的客户供货。不过AMD并没有明确表示是获得向华为供货的许可证,但业内猜测大概率是向华为供货的许可证。

华为方面,在美国终极禁令生效后,任正非亲自率领华为高层访问,得到了院长白春礼的热情接待,双方明确表示将加强在基础研究及关键技术领域的合作。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图4)

第二个信号是光刻机,上文提到,在美国终极禁令生效后的第二天,就表示将举全院之力攻克光刻机等核心技术。而华为在早些时候又被媒体爆料将进军IDM模式,实现芯片自主设计制造。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图5)

对华为来说,是国内最强大的科研单位,如果说中国有哪一家机构能率先研发出高端光刻机,那非莫属,所以这次任正非访问,也有为光刻机奔走的成分。

第三个信号是国企民企将加强合作,在此次交流中,双方都强调要在现有合作基础上进一步加强在各领域的合作,共同把握创新机遇,推动研究成果的落实。这证明,在美国的压力下,国企跟民企正在走向融合,加强技术交流,共同合作加速国内科技的腾飞。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图6)

值得一提的是,国内科研机构及企业因美国禁令的压力逐渐走向合作的时候,美国却传出了坏。

据国际半导体协会发布的报告显示,受美国出口限制措施影响,今年以来海外客户对美国芯片及设备的购买量出现大幅度下降,给美国半导体企业带来了巨大的影响,预计造成损失达到1700亿美元,约11634亿。

第二个信号是光刻机,所以这次任正非访问中科院,释放了三个信号(图7)

有国际专家认为,中国因美国方面的压力正在走向团结,携手攻克难关。而美国半导体行业却因为政府禁令,陷入危机,长此以往,中美半导体产业的差距恐怕会被拉近。

此外,现在中国已经在发展第三代半导体,相比于第二代半导体,第三代半导体对设备的要求并不高,这无疑是给了中国半导体产业弯道超车的机会。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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